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2138acom太阳集团光镀是指将金属(或介质)膜(或多层金属)镀在光学零件表面的工艺过程。光电器件表面镀膜的目的是达到减少或增加光的反射性、分束性、分色性、滤光性和偏振性等。通常采用的镀膜方法是真空镀(物理镀)和化学镀。

光涂层原理：

负压电镀主要是指需要在较高真空下进行电镀，包括真空离子蒸发、磁控溅射、 MBE分子束外延、 PLD激光溅射沉积等，所以。蒸发器和溅射器通用。用镀层材料制成基材，用镀层材料作为靶材或药材。基体和靶体在同一真空状态下。

蒸发层通常是加热的目标，将表面成分蒸发成自由基或离子，然后通过合成沉积在基底上，膜层上。关于溅射涂层，很容易理解，目标材料被电子或高能激光轰击，表面成分以自由基或离子的形式溅射，最后沉积在基体表面，形成薄膜。

常用光学涂层材料有以下几种：

无色晶系粉末，纯度高，用它制备光学镀膜，能提高透光性，不产生崩点。

高熔点、硬度、化学稳定性良好的无色透明晶体。采用该工艺制备的优质Si02涂层，具有良好的蒸发状态，无崩点。按用途可分为紫外线、红外线和可见光用。

重质结晶态，折射率高，耐高温性好，化学性质稳定，纯度高，可制得优质氧化锆涂层，无崩点。